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等离子增强化学气相沉积设备

PECVD可生产具有优异均匀性和高沉积速率的薄膜，并可改变薄膜的材料性质，如折射率、应力、电学特性和湿法腐蚀速率等，在达到高沉积速率的同时，还能保证薄膜性能和晶圆均匀性。
产品型号
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