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物理气相沉积系统（PVD）.png

物理气相沉积系统（PVD）

1.多腔室磁控溅射设备，可实现连续镀膜满足小批量生产，兼顾科研需求2.旋转磁场，实现更好均匀性、高离化率及靶材利用率 3.优异的温度和颗粒控制能力 4.功率、气体流量精准可控，实现高纯度低缺陷薄膜生长 5.兼容性强，工艺适用于金属及化合物薄膜沉积、深孔沉积 6.独特的可清洗内衬设计，便于维护保养，降低成本 7.系统稳定可靠，可实现自动上、下料 8.可根据客户需求特殊定制，占地空间小
产品型号
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